三星嗆台積 3奈米領先一年 - 工程師

儘管日韓貿易衝突持續延燒，三星電子原定9月在日本東京的晶圓代工論壇將如期舉行。

三星屆時預料將展示自家先進製程技術，並提供用於生產3奈米以下晶片、名為「環繞閘

極」（GAA）技術的製程套件。三星據稱在GAA技術領先全球晶圓代工龍頭台積電一年，更

超前英特爾（Intel）兩到三年。




南韓媒體BusinessKorea報導，三星28日宣布，2019年「三星晶圓代工論壇」（SFF）將如

期於9月4日在東京舉行，且已於26日在網站上開始受理報名。在日韓貿易緊張不斷升高之

際，業界正懷疑這場論壇能否如期在東京舉行，三星這項決定消弭了外界的疑慮。





產業專家分析，三星想要傳達的訊息是，儘管面臨日本的「斷貨」威脅，三星電子旗下的

晶圓代工事業不受中斷。






報導指出，三星將展示自家奈米製程技術，並提供名為「環繞閘極」（GAA）技術的製程

套件。GAA技術將用於3奈米、甚至更精密的製程技術。





日本當局在4日加強管制三項重要半導體原料的出口，其中，日製光刻膠為極紫外光（EUV

）微影技術的關鍵材料，讓三星的晶圓代工部門首當其衝，也削弱與台積電在7奈米晶片

的競逐能力。






EUV製程是三星欲在2030年於全球記憶體、無晶圓廠及晶圓代工業務穩坐龍頭寶座的關鍵

。在EUV製程與台積電旗鼓相當的三星電子，正快馬加鞭量產7奈米晶片，盼能藉提前進度

超車台積電。但日本本周非常可能把南韓踢出「白色名單」，三星的高科技原料進口預料

將更加受限。






三星預定未來幾個月完成位於華城的第一條EUV晶片產線，並計劃之後在京畿道平澤建設

另一條EUV產線。如今，三星一名高階主管指出，「考量到當前情況，我們必須考慮投資

新EUV產線的時機」。






三星電子自5月開始陸續在美國、上海及首爾舉辦晶圓代工論壇，待9月論壇落幕後，下一

場將論壇於10月在德國慕尼黑登場。




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