台積電、三星拼7奈米製程 ASML極紫外光設 - 工程師

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台積電、三星拼7奈米製程 ASML極紫外光設備訂單強強滾

〔記者洪友芳／新竹報導〕全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾 （ASML） 公佈今年第
一季財報，季營收19.4億歐元，毛利率為47.6%，EUV極紫外光微影系統的未出貨訂單則已
累積到21台，價值高達23億歐元，預估第二季營收將落在19到20億歐元之間，毛利率約為
43到44%。

ASML總裁暨執行長溫彼得 （Peter Wennink） 指出，「積極的產業環境為2017年提供了
一個的強勁開始，我們預估這樣健康的市場需求將持續今年一整年。我們看到客戶對於
DUV的強烈需求，有些客戶選購效能升級方案以優化他們現有的浸潤式機台，因此我們的
服務和升級業務在第一季度的表現也非常好，預估這樣的趨勢將延續到第二季。」

溫彼得也說明攸關先進製程設備銷售進展，指出EUV極紫外光微影系統正進入量產階段，
訂單持續湧入，目前的未出貨訂單已累積到21台。

三星去年年中傳出購買EUV 機台設備，傳出預計今年底量產7奈米；台積電7奈米製程已在
第一季底試產與準備明年量產，此製程首度導入極紫外光微影技術，並為客戶提供強化版
的產品設計。

對於第一季產品銷售情況，ASML表示，深紫外光 （DUV）微影持續出貨，NXT:1980浸潤式
微影系統給記憶體客戶及邏輯晶片客戶進行10奈米量產、7奈米製程開發，目前NXT:1980
浸潤式系統的累積裝機量已提高達到60多台。

本季ASML和Cadence宣布合作，將ASML的微影和圖樣模擬（patterning simulation） 模
型整合到Cadence的產品中，這將幫助晶片設計業者在設計階段就能進行可生產性確認，
以達到更好的效能並縮短上市時程。極紫外光（EUV）微影已在第一季末到第二季初間完
成第一台NXE:3400B系統的出貨。

(自由時報 2017/04/20)

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