請問一下半導體製程工程師的問題? - 工程師

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半導體flow有分金屬後 金屬前的製程 金屬前可以跳到金屬後run

可是金屬後一定不能跳到金屬前run 因為機台會金屬汙染

因我在處理一批貨時 要鍍一層SiON film 可是那個film厚度只有在金屬後的站點才有

於是我就把這一批貨從金屬前跳到金屬後run

這批一批貨還沒鍍SiON film時 都還沒有半點金屬物質加入

鍍完SiON film時 我就請公司的自動化部門技巧性的跳回去金屬前我要的站點

可是這一點今天被主管發現了 被念了一下 說機台會金屬汙染

請問我這樣的情形 會造成機台金屬污染很嚴重嗎?? 請教一下半導體製程工程師

我一直認為 只要元件沒有金屬物質加入 就都算是金屬前的製程

我只是跳站跳去金屬後段的製程鍍我想要厚度的film 這樣就不行了


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All Comments

Iris avatarIris2013-03-29
因為FOUP就會有污染的問題
Suhail Hany avatarSuhail Hany2013-04-01
多多少少會有後段的particle卡在wafer上吧
Sarah avatarSarah2013-04-03
後製程不會有meatal帶過去嗎? 何必分兩段?一台run兩道不是
很省?
Kyle avatarKyle2013-04-03
不汙染的話你覺得公司會想多花錢買機台分開Run嗎?
Mia avatarMia2013-04-08
1. 跟CVD溝通一下, 幫你建recipe
Rae avatarRae2013-04-09
2. 你可以送ICP-MS測試metal含量是否如你想像的少
Jake avatarJake2013-04-11
公司制度是死的, 主管更是怕死, 所以別惹事可保平安
Caitlin avatarCaitlin2013-04-16
...半導體是很保守的行業 建議你不要亂搞 出錯誰扛?
Bennie avatarBennie2013-04-20
因為那台是給金屬後用的機台 已被汙染 別亂搞