請問關於plasama etch system的問題 - 工程師

Elizabeth avatar
By Elizabeth
at 2016-03-24T22:27

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1.同體積的He跟同體積的N2 價格差幾倍

2.plasama etch system中常使用的
backside He system中的He可否用N2取代

是因為N2會跟Si反應嗎
還有其他比較便宜的gas可以取代嗎
有沒有經濟效益 cost down有沒有搞頭呀

小弟無知 異想天開 請各位先進指教
謝謝

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All Comments

Jessica avatar
By Jessica
at 2016-03-27T20:39
He是惰性氣體 N2在某些製程中可是會用作蝕刻氣體的
Robert avatar
By Robert
at 2016-03-30T17:23
要是發生leak現象對wafer有什麼副作用你無法預測監控
Annie avatar
By Annie
at 2016-03-31T18:53
先搞清楚etching的原理 你就知道氣體不是可以隨便換
Jacob avatar
By Jacob
at 2016-04-04T21:47
He冷卻效率比較好，不能換N2

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Barb Cronin avatar
By Barb Cronin
at 2016-03-24T19:46
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By Elizabeth
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By Franklin
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