超猛！美國成功挑戰0.7奈米製程 EUV做不到 - 工程師

來源：

https://ec.ltn.com.tw/article/breakingnews/4069196

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超猛！美國成功挑戰0.7奈米製程 EUV做不到


美國公司Zyvex 宣布推出世界上製造精密度最高的微影系統-- ZyvexLitho1，能製作出
0.7奈米晶片，這個曝光機製造出來的晶片主要用於量子電腦。

根據美國的Zyvex 公司官網介紹，名為ZyvexLitho1 系統是基於STM掃描隧道顯微鏡，使
用的是EBL電子束微影技術，成功製造了768皮米，也就是0.7奈米的晶片，相當於2個矽原
子的寬度，是當前製造精密度最高的微影系統。

這套 EBL 系統，專門提供給量子電腦使用，雖然技術大幅領先荷商ASML EUV，因產量非
常低，不可能應付市面晶片需求，亦即無法取代 EUV 地位。

STM技術發明者、伊利諾伊大學教授Joe Lyding表示，到目前為止，Zyvex實驗室的技術是
最先進的，也是這種原子級精確微影技術的唯一商業化實現。

矽量子計算公司執行長Michelle Simmons 則稱，建立一個可擴展的量子電腦有許多挑戰
。我們堅信，要實現量子計算的全部潛力，需要高精度的製造。我們對ZyvexLitho1感到
興奮，這是第一個提供原子級精密圖案的商業化工具。

根據 HPCwire 報導，Zyvex是致力於生產原子級精密製造工具的奈米技術公司。新產品是
在美國國防部旗下DARPA（國防高等研究計畫署）、美陸軍研究辦公室、能源部先進製造
辦公室，以及德州大學達拉斯分校教授Reza Moheimani支持下完成的。

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