10 奈米製程遙遙無期，Intel 挖角特斯拉 - 工程師

https://imgur.com/a/0so0oV6

Intel 10nm今年就已經有小量生產,但大量生產延後,
應該跟Intel的Tick-Tock strategy及缺乏EUV比較有關,
Tick-Tock strategy在14nm世代就已經確認用3年的節奏玩一個製程節點,
10nm不外乎也是相同的步調,
不過在製程節點微縮快到盡頭的前提下,這種步調只會拉長並不會縮短
https://imgur.com/a/Wr1kjIa


另外現階段使用SAQP應該也是Intel 10nm製程大量生產延後的一個主因,
Intel應該會覺得10nm用SAQP是很想爆粗口的一件事,
這也反應出其良率沒那麼好看,所以Brian Krzanich也想趕快導入EUV,
不過EUV還沒準備好之前,Intel應該還不會貿然使用,
畢竟EUV光阻液不匹配,還有還有光罩上覆蓋的pellicle membrane這些問題都還沒解決,
其實之前Mark Phillips(a fellow and director of lithography hardware and
solutions at Intel)就有說了
EUV lithography is highly desirable for the 7nm node, but we'll only use it
when it's ready.

這次有點小驚艷Data Center的業務表現,原本以為執掌Intel Data Center的
Diane Bryant跑到Google Diane Greene靡下之後,表現會平平,
結果卻佔了將近一半的營收

在收購Altera及Mobileye之後,Intel轉型不知道會不會變得比較順利,
不過Mobileye未來應該會為Intel帶來更豐厚的營收


延伸閱讀:

Intel has problems with 10nm and moves volume production towards 2019
https://www.guru3d.com/news-story/intel-has-problems-with-10nm-and-moves-volume-production-towards-2019.html


Intel Drops Tick-Tock Strategy Once and For All – Now Aims at Process,
Architecture and Optimization, 3 Year Cadence
https://wccftech.com/intel-tick-tock-strategy-dead/


Why EUV Is So Difficult
https://semiengineering.com/why-euv-is-so-difficult/


What's the Next-Gen Litho Tech? Maybe All of Them
http://semimd.com/blog/tag/nanoimprint-lithography/


Intel’s move beyond PC chips boosts revenues
https://www.ft.com/content/9d0e84aa-4997-11e8-8ee8-cae73aab7ccb



※ 引述《howard6066 (秘密)》之銘言：
: 【摩爾定律將盡】10 奈米製程遙遙無期，Intel 挖角特斯拉大將趕研發
: https://buzzorange.com/techorange/2018/05/02/intel-jim-keller/
: 上週四，英特爾（Intel）宣布 Jim Keller 以資深副總的職位正式加入他們，並帶領公
: 司的矽工程，還有 SoC 的開發和整合。
: Jim Keller 曾任職於 AMD、Apple，成功開發 AMD Athlon（K7）和 Athlon 64 處理器，
: 以及設計 Apple 的 A4、A5 晶片，被業界譽為處理器的設計天才。在來到英特爾前，他
: 還是特斯拉（Tesla）自動輔助駕駛部門的主管。
: 英特爾的困境
: 英特爾原本預計今年中就可以開始量產 10 奈米製程晶片，但現在可能要到 2019 年才能
: 達成。
: 在上週的財報電話會議中，英特爾執行長 Brian Krzanich 被逼問 10 奈米製程的進度，
: 他指出目前英特爾已經在少量出貨 10 奈米製程晶片，良率也正在改善；但他也坦承，
: 目前的研發進度的確比預期落後不少 。
: Krzanich 也說到，10 奈米製程的落後和多重圖形（multi-patterning）技術導致的缺陷
: 有關；英特爾預計要到 7 奈米製程才會使用極紫外光（EUV）微影技術。
: TO 延伸：全球 12 台 7 奈米製程設備三星想獨攬 10 台，但台積電早有準備啦
: Jim Keller 的到來，正是 Intel 為了趕上研發進度而拿出的解決辦法之一。
: 台積電有望超前
: 雖然 Krzanich 指出英特爾還是有「流程和效能上的領導優勢」，但如果研發進度仍無法
: 突破，可能會被台積電、三星和格羅方德等後來追上。
: 科技分析公司 Linley Gwennap 認為，台積電等三家業者的的 7 奈米製程，已經和英特
: 爾的 10 奈米製程晶片相當接近，甚至最快會在 2021 年超越英特爾，進入下一代的製程
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