5、7nm的光阻跟14nm的不同嗎? - 工程師

David avatar
By David
at 2019-12-03T14:42

Table of Contents

這個問題短短的,但是認真回起來可是會變萬言書的。

光阻(photoresist,PR)是用來定義晶圓圖案的介質,光線經過光罩.透鏡將圖案轉移至光
阻上,再透過蝕刻將這層圖案轉印到底下的晶圓上,這就是簡單的半導體製作流程。

光罩上的圖案,是由光線轉印到光阻上,那要怎樣才能讓圖案越來越 小,就是半導體的
製程演進。22nm,16nm,14nm,12nm,7nm,5nm....這些就是製程世代中,用來表現製程能力
的代稱,在記憶體(ex:NAND),這個數字代表BL/WL pitch 的1/2。

要如何讓光阻上轉印的圖型越來越 小,詳細請餵狗。總的來說,用波長較短的光是最簡
單的。如KrF波長248nm,ArF波長193nm,這些通稱DUV。KrF對應的世代是0.15-0.25um,A
rF對應0.13-0.18um
EUV波長為13.5nm,對應的則是則是7nm,5nm或以下。
從130nm - 7nm中間的空缺,則由193i以及多重曝光或多次圖型化技術給填上。

對應不同波長的光,就會有不同的光阻,一般你會聽到KrF光阻就是給248nm光源使用,Ar
F就是給193nm光源使用。Immersion光阻就是給193i使用。EUV光阻不用我講吧。

一般來說,7nm,5nm用到EUV,光阻就會跟14nm相異。如果7nm,5nm還是使用193i搭配多
次圖型化技術,那跟14nm使用的光阻大致上一樣。

當然,光阻會有很多改進。當光波長變短,對應的光阻就會變的更薄更軟(對蝕刻的講法
,就是更不耐蝕刻)。
光阻廠商會做很多的調整,讓光阻厚度,均勻度或抗蝕刻能力較佳。也有些調整是有關缺
陷(defect)的改進,同樣都是KrF,各家使用也是有所不同。

簡單科普,希望有幫到你。

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All Comments

Liam avatar
By Liam
at 2019-12-06T08:14
路人學經驗
Hamiltion avatar
By Hamiltion
at 2019-12-10T06:45
樓下歐底特 這篇幾顆星?
Wallis avatar
By Wallis
at 2019-12-14T02:34
☆ ☆ ☆ ☆ ☆ ☆ ☆ ☆ ☆ ☆
Lydia avatar
By Lydia
at 2019-12-17T21:26
先推再看,謝謝
Isabella avatar
By Isabella
at 2019-12-21T21:37
希望這種認真文越來越多
Susan avatar
By Susan
at 2019-12-23T01:14
輕輕鬆鬆問出技術細節 保密都不用了
Caroline avatar
By Caroline
at 2019-12-23T02:45
估狗就有的要保什麼密XD
Rebecca avatar
By Rebecca
at 2019-12-24T10:21
某樓以為這樣就機密,你當tune參數的都87?
Zenobia avatar
By Zenobia
at 2019-12-27T03:06
保密 XD
Candice avatar
By Candice
at 2019-12-29T16:52
感謝科普,文組表示知道了。
Lydia avatar
By Lydia
at 2020-01-01T04:59
直接回我 5434現在是便宜還是貴?
Kama avatar
By Kama
at 2020-01-05T13:38
文組才覺得這是細節
Jack avatar
By Jack
at 2020-01-09T05:17
認真文推一個,黃光製程基礎入門課
Ivy avatar
By Ivy
at 2020-01-14T04:03
Joseph avatar
By Joseph
at 2020-01-16T12:02
這東西隨便買一本半導體製程課本應該都有吧..
Eden avatar
By Eden
at 2020-01-17T04:07
哈哈六樓是反串吧
Zanna avatar
By Zanna
at 2020-01-21T04:37
推 用心回覆
Mason avatar
By Mason
at 2020-01-23T12:08
笑死 這是機密XD 要不要先關三天
Vanessa avatar
By Vanessa
at 2020-01-27T19:49
對我們門外漢科普一下還是很有用的!
感謝!
George avatar
By George
at 2020-02-01T14:47
笑死這細節機密XDDDDDDDDDDDD
Margaret avatar
By Margaret
at 2020-02-04T10:05
台灣似乎沒有公司能做出半導體用的光阻
Oliver avatar
By Oliver
at 2020-02-08T21:13
感謝分享,這篇把我的記憶都找回來了XD,我是開篇原PO
Ina avatar
By Ina
at 2020-02-09T05:16
因為成功轉Q,我那本半導體製程早就丟了(不知道華通書局還
Carol avatar
By Carol
at 2020-02-13T17:18
在不在)
Gilbert avatar
By Gilbert
at 2020-02-18T00:40
我記得台灣還是有可以自製的半導體光阻,但是良率不好
Emma avatar
By Emma
at 2020-02-22T15:27
依進步的速度,生產對應的光阻,資本支出要很大
Ida avatar
By Ida
at 2020-02-22T18:21
機台不更新很難做對應的產品
Vanessa avatar
By Vanessa
at 2020-02-22T23:59
另外如果沒有一間公司願意陪練,很難做出成熟產品
Quanna avatar
By Quanna
at 2020-02-25T17:07
再加上信心度跟品牌形象問題,很難有後面的競爭者
Dorothy avatar
By Dorothy
at 2020-02-26T02:34
Isla avatar
By Isla
at 2020-02-26T22:16
誰給你基本知識 這根本是常識
Kyle avatar
By Kyle
at 2020-03-01T03:09
Dorothy avatar
By Dorothy
at 2020-03-02T18:58
認真文
Ida avatar
By Ida
at 2020-03-03T20:00
之前達興好像有在玩光阻,不曉得成果如何就是了
Jack avatar
By Jack
at 2020-03-07T11:39
用心給推
Rosalind avatar
By Rosalind
at 2020-03-10T11:17
達興的不錯啊 但僅限於面板業,半導體光阻還是AZ
和日商為主
Leila avatar
By Leila
at 2020-03-11T11:16
推科普
Queena avatar
By Queena
at 2020-03-14T19:52
真正的機密是參數設定跟process內容好嗎 某樓?
Erin avatar
By Erin
at 2020-03-16T02:27
感謝休息時間不多的黃光弟兄還出一篇好文
Linda avatar
By Linda
at 2020-03-20T19:59
光阻(PR) 基本上就高分子跟紫外光反應,被UV能量打斷鍵
結的部份顯影就被洗掉
不同波長能量不同,會產生斷鍵反應的鍵結也不同
Jack avatar
By Jack
at 2020-03-24T10:50
BL/WL pitch 的1/2 是DRAM, NAND不是用這個算的唷
Tristan Cohan avatar
By Tristan Cohan
at 2020-03-26T22:20
這就大方向提一提,機密在哪…
Liam avatar
By Liam
at 2020-03-30T13:35
其實記憶體跟logic線寬不能直接對應
Frederic avatar
By Frederic
at 2020-04-01T07:46
搞不好記憶體的19nm design rule 跟logic對應起來接近7n
m.
Audriana avatar
By Audriana
at 2020-04-03T20:18
(純舉例,詳細數字我也不知道
Faithe avatar
By Faithe
at 2020-04-05T20:18
推推
Harry avatar
By Harry
at 2020-04-09T06:45
Quintina avatar
By Quintina
at 2020-04-11T10:40
科普的超好
Anonymous avatar
By Anonymous
at 2020-04-12T13:20
機密啥 我上課做的報告都比這詳細
William avatar
By William
at 2020-04-17T12:10
Valerie avatar
By Valerie
at 2020-04-19T07:25
趕緊推一下免得被發現看不懂
Aaliyah avatar
By Aaliyah
at 2020-04-19T13:39
推一下
Odelette avatar
By Odelette
at 2020-04-20T07:00
隔行如隔山 這真的算常職了
Caroline avatar
By Caroline
at 2020-04-24T18:14
Enid avatar
By Enid
at 2020-04-25T02:31
光阻有正負型的差別
Franklin avatar
By Franklin
at 2020-04-27T07:23
大部分的光阻是光酸或光起始劑去跟成份反應
Harry avatar
By Harry
at 2020-05-02T03:56
高分子比較少做為吸光中心,斷裂也是斷側鏈為主
Hazel avatar
By Hazel
at 2020-05-05T07:05
那同光源為何也有不同光阻的配置是和後續流程有關嗎?
Puput avatar
By Puput
at 2020-05-06T20:33
老師您真佛心,還一個一個回覆,認真給推!
Margaret avatar
By Margaret
at 2020-05-11T03:48
推一個0.0
Zenobia avatar
By Zenobia
at 2020-05-16T03:12
太神啦
Rae avatar
By Rae
at 2020-05-20T10:40
陰刻跟陽刻
Dora avatar
By Dora
at 2020-05-23T21:31
機密 ㄎㄎ
Annie avatar
By Annie
at 2020-05-27T13:09
文組背完抄三次準備面試去 謝謝
Victoria avatar
By Victoria
at 2020-05-30T19:59
你這段能默寫也沒辦法pass大學部蝕刻課 是要去面試掃地工
Bennie avatar
By Bennie
at 2020-06-01T13:46
印象中正型解析度比較好,小線寬幾乎都正型?
Elvira avatar
By Elvira
at 2020-06-01T21:32
如果同樣喊7nm, I皇線寬會比較小
Daph Bay avatar
By Daph Bay
at 2020-06-02T20:37
後來I皇就出來講要比單位面積電晶體密度
James avatar
By James
at 2020-06-04T11:31
這機密啥?機密是如何做到,不是原理
Irma avatar
By Irma
at 2020-06-09T08:18
還有AZ已經被併購了,目前唐榮那邊主要是做面板光阻,半導
體沒那麼多
Edith avatar
By Edith
at 2020-06-10T02:44
感謝
Necoo avatar
By Necoo
at 2020-06-13T04:22
推推
Noah avatar
By Noah
at 2020-06-17T22:16
負光阻用在面板的彩色濾光片比較多
Anthony avatar
By Anthony
at 2020-06-22T07:02
Heather avatar
By Heather
at 2020-06-23T22:15
感謝囉 之前看同機台但轉layer而有speedloss
George avatar
By George
at 2020-06-25T07:06
一般台灣研發以為原理是機密?原理不是入門的基本能力
Adele avatar
By Adele
at 2020-06-25T08:20
嗎?偏偏一堆台灣研發連基本原理都不太懂 才會東藏西
藏自以為是機密 哈哈

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因為離開晶圓廠有點久了 而且以前也不是黃光的 請教的問題可能很瞎 請多包涵 想請問7nm跟14nm用的光阻會不同嗎? 我以前的想法是跟機台比較有關 精度差異大的的機台可能搭配的光阻不同 或是我也是對的,因為7nm是跳了一個難度gap 只能適用全新技術的photo機台 理所當然光阻也不同? - ...