就近服務台積電 艾司摩爾南科設EUV培訓 - 工程師
By Andy
at 2020-08-20T22:17
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就近服務台積電 艾司摩爾南科設EUV培訓中心
自由時報
https://ec.ltn.com.tw/article/paper/1394287
〔記者洪友芳/新竹報導〕晶圓代工龍頭台積電位於南科的五奈米製程晶圓十八廠,是導
入極紫外光(EUV)微影設備的全製程廠區,將是全球擁有EUV最大產能的半導體廠;荷商
艾司摩爾(ASML)看好台灣半導體業,並服務大客戶台積電,正式在南科設立荷蘭以外的
首座EUV全球技術培訓中心,今正式開幕,以訓練EUV設備人才。
https://img.ltn.com.tw/Upload/business/page/800/2020/08/20/213.jpg
台積電近五年資本支出(製表:記者洪友芳)
海外首座EUV培訓中心
台積電的七奈米製程主要在中科十五廠量產,去年量產第二年,七奈米加強版才開始導入
EUV設備的技術。位於南科的晶圓十八廠剛量產五奈米製程,為台積電第一個採EUV微影設
備的全製程技術超大型晶圓廠(GigaFab),接續還將建置三奈米產能,將是全球擁有EUV
最大產能的半導體廠。
台積電是全球晶圓代工霸主,技術領先英特爾、三星等,英特爾在七奈米製程技術卡關,
日前已宣布將委外代工生產,三星則宣示下半年量產五奈米;台積電目前是全球最有能力
投資EUV微影設備的半導體廠,可說是ASML的大客戶,因此吸引ASML在南科設立荷蘭以外
的首座EUV全球技術培訓中心,以培訓EUV設備工程人才,就近服務客戶裝機與售後維修。
EUV微影設備 單價35億
EUV微影設備售價昂貴,全球僅ASML生產製造,業界預估一台售價超過一億歐元(約三十
五億台幣),…EUV技術門檻高,目前全球僅台積電、英特爾、三星採購居多;ASML在南
科廠區規劃約五百坪空間,配置EUV模組、訓練教室等,提供對內對外教育訓練,代表看
重台灣半導體市場。
台積3奈米 明年試產
因應五奈米、三奈米製程的投資龐大,即使面對疫情,台積電反而逆勢上修今年資本支出
達一六○至一七○億美元,帶動半導體供應鏈也旺。台積電估五奈米貢獻今年營收約八%
,與五奈米共用設備的四奈米製程預計二○二二年量產,三奈米製程目前進展順利,計畫
明年進入風險性試產、二○二二年下半年量產,屆時仍將是領先全球的技術。
◎小檔案:EUV 極紫外光微影技術
極紫外光微影(Extreme ultraviolet lithography,簡稱EUV),是一種使用極紫外波長
的下一代微影技術,透過高能量、波長短的光源,將電路圖案轉印到晶圓。EUV光源波長
比目前深紫外線微影的光源波長短少約15倍,因此能達到持續將線寬尺寸縮小的目的,透
過EUV微影設備,驅動晶片效能更高。台積電估算,採EUV與5奈米製程,相較7奈米,電晶
體密度多1.8倍,速度增快15%,功耗省30%(記者洪友芳)
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自由時報
https://ec.ltn.com.tw/article/paper/1394287
〔記者洪友芳/新竹報導〕晶圓代工龍頭台積電位於南科的五奈米製程晶圓十八廠,是導
入極紫外光(EUV)微影設備的全製程廠區,將是全球擁有EUV最大產能的半導體廠;荷商
艾司摩爾(ASML)看好台灣半導體業,並服務大客戶台積電,正式在南科設立荷蘭以外的
首座EUV全球技術培訓中心,今正式開幕,以訓練EUV設備人才。
https://img.ltn.com.tw/Upload/business/page/800/2020/08/20/213.jpg
台積電近五年資本支出(製表:記者洪友芳)
海外首座EUV培訓中心
台積電的七奈米製程主要在中科十五廠量產,去年量產第二年,七奈米加強版才開始導入
EUV設備的技術。位於南科的晶圓十八廠剛量產五奈米製程,為台積電第一個採EUV微影設
備的全製程技術超大型晶圓廠(GigaFab),接續還將建置三奈米產能,將是全球擁有EUV
最大產能的半導體廠。
台積電是全球晶圓代工霸主,技術領先英特爾、三星等,英特爾在七奈米製程技術卡關,
日前已宣布將委外代工生產,三星則宣示下半年量產五奈米;台積電目前是全球最有能力
投資EUV微影設備的半導體廠,可說是ASML的大客戶,因此吸引ASML在南科設立荷蘭以外
的首座EUV全球技術培訓中心,以培訓EUV設備工程人才,就近服務客戶裝機與售後維修。
EUV微影設備 單價35億
EUV微影設備售價昂貴,全球僅ASML生產製造,業界預估一台售價超過一億歐元(約三十
五億台幣),…EUV技術門檻高,目前全球僅台積電、英特爾、三星採購居多;ASML在南
科廠區規劃約五百坪空間,配置EUV模組、訓練教室等,提供對內對外教育訓練,代表看
重台灣半導體市場。
台積3奈米 明年試產
因應五奈米、三奈米製程的投資龐大,即使面對疫情,台積電反而逆勢上修今年資本支出
達一六○至一七○億美元,帶動半導體供應鏈也旺。台積電估五奈米貢獻今年營收約八%
,與五奈米共用設備的四奈米製程預計二○二二年量產,三奈米製程目前進展順利,計畫
明年進入風險性試產、二○二二年下半年量產,屆時仍將是領先全球的技術。
◎小檔案:EUV 極紫外光微影技術
極紫外光微影(Extreme ultraviolet lithography,簡稱EUV),是一種使用極紫外波長
的下一代微影技術,透過高能量、波長短的光源,將電路圖案轉印到晶圓。EUV光源波長
比目前深紫外線微影的光源波長短少約15倍,因此能達到持續將線寬尺寸縮小的目的,透
過EUV微影設備,驅動晶片效能更高。台積電估算,採EUV與5奈米製程,相較7奈米,電晶
體密度多1.8倍,速度增快15%,功耗省30%(記者洪友芳)
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