不用EUV也能直上5奈米,鎧俠與合作夥伴欲先導入量產 - 工程師

不用 EUV 也能直上 5 奈米，鎧俠與合作夥伴欲先導入量產
https://technews.tw/2021/10/22/can-go-straight-to-5nm-without-euv/

半導體製程技術進入 10 奈米節點後，EUV 曝光設備是不可或缺的步驟，但 EUV 曝光設
備每台價格高達 1.5 億美元，且產量有限，讓晶片生產成本驟升。為解決問題，日本記
憶體大廠鎧俠（Kioxia）聯合合作夥伴開發新技術，可不使用 EUV 曝光設備就直達 5 奈
米。

日本媒體報導，鎧俠從 2017 年開始與半導體設備廠佳能及光罩、範本等半導體零組件製
造商 DNP 合作，在三重縣四日市鎧俠工廠研發奈米壓印微影 (NIL) 量產技術。鎧俠已掌
握 15 奈米量產技術，目前正在進行 15 奈米以下研發，預計 2025 年達成。

相較已商用化的 EUV 技術半導體製程，鎧俠表示 NIL 技術減少耗能，且大幅降低設備成
本。原因在 NIL 技術微影製程較單純，耗電量可壓低至 EUV 技術 10%，並讓設備投資降
至僅 EUV 設備 40%。EUV 曝光設備由荷蘭商 ASML 獨家生產，不但價格高昂，且需許多
檢測設備配合。雖然 NIL 技術有許多優點，但現階段量產仍有不少問題有待解決，包括
更容易因灰塵造成瑕疵。

對鎧俠來說，NAND 零組件因採取 3D 立體堆疊結構，更適應 NIL 技術製程。鎧俠也表示
，已解決 NIL 基本技術問題，正在最佳化量產技術，希望較其他競爭對手率先導入
NAND 生產。若鎧俠成功引進 NIL 技術，可望彌補投資設備競賽的不利局面，又符合減
少碳排放的需求。

據 DNP 說法，NIL 量產技術電路微縮程度可達 5 奈米節點，DNP 從 2021 年春天開始就
據設備規格值模擬。DNP 透露，半導體製造商對 NIL 量產技術詢問度增加，顯示不少廠
商寄予厚望。另一個合作夥伴佳能致力將 NIL 量產技術廣泛用於製作 DRAM 及 PC 用
CPU 等邏輯晶片設備，供應更多半導體製造商，將來也希望用於手機應用處理器等最先
進製程。

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不曉得真的有可能實現奈米級的量產嗎?




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